主要性能指标
1、Ga离子束分辨率：2.5 nm @ 30 kV
2、电子束分辨率：0.6 nm @ 15 kV；0.7 nm @ 1 kV；1.0 nm @500 V
3、STEM分辨率：0.6 nm@30 kV
4、能谱仪：元素分析范围: Be4～Cf98，晶体有效面积：170mm2，Aztec Live实时交互平台，能够实现实时面分布成像
5、电子背散射衍射仪（EBSD）：分辨率1244*1024，高灵敏度CMOS相机
6、大样品仓，仓门内径：≥330 mm
7、可进行以下4种气体的沉积：铂Pt\碳C\氧化硅\钨W
8、冷台：温控范围：+50°C至-190°C；温度稳定性：< ±1°C
9、三维重构
仪器功能和附件
功能：
1）观察高分辨的微观结构与形貌；
2）金属、半导体、电介质、多层膜结构等固体样品上制备微纳结构；
3）高质量定点TEM样品制备；
4）化学和晶体结构三维形态分析；
5）离子束刻蚀、离子束沉积、电子束沉积。
6）能谱用于材料的微区成分定性、定量分析，并具备实时能谱面分布成像；
7）EBSD用于微区电子背散射衍射分析。
附件：能谱仪、EBSD检测器、离子束研磨仪（徕卡）、全自动临界点干燥仪（徕卡）、精研一体机（徕卡）
仪器使用范围
广泛应用于材料、生命科学、医学、物理、地矿、化工、化学、冶金、机械、制药等多个领域的科学研究和质量检测。
